近日，宁波冠石半导体光掩模版项目顺利封顶，该项目坐落于宁波前湾新区，自2023年5月16日签约至今年的10月1日正式动工，仅用了短短的8个月。

据了解，该项目预计总投资额接近20亿元，其中已初步投入16亿元，占地约68.8亩，整个建设周期预定60个月，主要致力于45-28nm成熟制程半导体光掩膜板的研发和生产。

资料显示， 芯片采购平台宁波冠石半导体正是专注于半导体光掩模版生产的产业头部企业，产品主要适用于45-28nm的半导体光掩模版的大规模制造。

光掩模版作为光刻工艺中所必需的图形转换工具或模板，其作用类似于相机中的“底片”，是显示面板驱动IC（简称“DDIC”）生产过程中的关键材料之一。冠石科技指出，本项目建成并达产后，将与公司现有的业务形成良好的协同效应，以满足现有客户的潜在需求。

早在去年5月份，冠石科技就与宁波前湾新区管理委员会签署了合作协议，确定将项目落户该区域。宁波前湾新区管委会承诺将全力协助冠石科技申报省市重点项目，以及积极争取各项国家、省级、市级政策优惠。

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