近日，宁波冠石半导体光掩模版项目顺利封顶，该项目坐落于宁波前湾新区，自2023年5月16日签约至今年的10月1日正式动工，仅用了短短的8个月。 据了解，该项目预计总投资额接近20亿元，其中已初步投入16亿元，占地约68.8亩，整个建设周期预定60个月，主要致力于45-28nm成熟制程半导体光掩膜板的研发和生产。 资料显示，宁波冠石半导体正是专注于半导体光掩模版生产的产业头部企业，产品主要适用于45-28nm的半导体光掩模版的大规模制造。 光掩模版作为光刻工艺中所必需的图形转换工具或模板，其作用